• Estudo da difusão de intersticiais em matrizes de α-Ti 

      Bregolin, Felipe Lipp (2008) [Dissertação]
      O objetivo desta dissertação consiste no estudo da difusão dos intersticiais, 15N e 18O, em uma matriz de α-Ti. A motivação se origina do fato de haver na literatura resultados contraditórios sobre o comportamento difusivo ...
    • Thermal behavior of hafnium-based ultrathin films on silicon 

      Pezzi, Rafael Peretti; Morais, Jonder; Dahmen, Silvio Renato; Bastos, Karen Paz; Miotti, Leonardo; Soares, Gabriel Vieira; Baumvol, Israel Jacob Rabin; Freire Junior, Fernando Lazaro (2003) [Artigo de periódico]
      We report here on the thermodynamical stability of ultrathin, hafnium-based dielectric films, namely hafnium oxide (HfO2), silicate (HfSixOy), and aluminum silicate (AlHfxSiyOz), deposited on silicon. These materials are ...
    • Thermal stability and diffusion in gadolinium silicate gate dielectric films 

      Landheer, Dolf; Wu, Xiaohua; Morais, Jonder; Baumvol, Israel Jacob Rabin; Pezzi, Rafael Peretti; Miotti, Leonardo; Lennard, W.N.; Kim, Joon-Kon (2001) [Artigo de periódico]
      Gadolinium silicate films on Si(100) annealed in oxygen and vacuum at temperatures up to 800 °C were analyzed by Rutherford backscattering and narrow resonance nuclear profiling. Oxygen diffused into the film eliminating ...