Navegação por Assunto "Sputtering"
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Análise por feixes de íons de filmes finos dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente
(1993) [Tese]Esta tese trata de filmes finos de materiais dielétricos depositados por sputtering reativo e crescidos termicamente que são analisados por métodos de feixes de íons. Como introdução aos nossos trabalhos, são abordados os ... -
Caracterização elétrica de estruturas metal/dielétrico high-k/Si
(2005) [Dissertação]Foram estudadas as propriedades elétricas de estruturas MOS envolvendo materiais com Zr e Hf: Al/HfO2/Si, Al/HfAlO/Si, Al/ZrO2/Si e Al/ZrAlO/Si depositadas por JVD (Jet Vapor Deposition) submetidas a diferentes doses de ... -
Estudo da estabilidade de nanoestruturas de Ag E Au sob irradiação de elétrons
(2019) [Dissertação]A formação e modificação de nanoestruturas têm atraído grande interesse acadêmico e tecnoló- gico em função de suas possibilidades de aplicação e inovação. Portanto, técnicas que permitam produzir e trabalhar com essas ... -
Estudo de sínteses e caracterização de filmes de óxido de tungstênio
(2019) [Tese]O oxido de tungstênio (WO3) e um semicondutor de bandgap indireto e muito utilizado em aplicações tecnológicas, principalmente, como eletrodo em células solares e baterias de lítio- íon. No entanto, a e ciência destes ... -
Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores
(1990) [Dissertação]Filmes finos de óxido de estanho depositados por "sputtering" reativo foram caracterizados com bases em análises feitas por Espalhamento Nuclear Ressonante, Espectroscopia por Retroespalhamento Rutheford, Espectroscopia ... -
Novo método de recobrimento de substratos em pó com nanopartículas : aplicação em catálise e nanopartículas magnéticas
(2014) [Tese]A busca para obter produtos com o menor custo, sem gerar resíduos, mantendo ou melhorando suas propriedades físico-químicas, é constante do ponto de vista tecnológico. A tecnologia de revestimento/impregnação de suportes ... -
Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
(2020) [Trabalho de conclusão de graduação]Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de tungstênio dopados com diferentes concentrações de molibdênio. Os filmes foram obtidos por DC magnetron sputtering de um alvo de tungstênio em substratos de silício ... -
Otimização do contato entre partículas em filmes de Ta3N5 depositados por eletroforese
(2024) [Trabalho de conclusão de graduação]A deposição eletroforética (EPD) oferece controle preciso sobre as características de um filme, sendo fundamental para diversas aplicações foto(eletro)químicas. Entretanto, os filmes depositados por EPD são compostos por ... -
Preparação e caracterização magnetoelétrica de multimarcas de W/CoFeB
(2023) [Trabalho de conclusão de graduação]Este trabalho é focado no estudo experimental de anisotropia magnética em sistemas formados por heteroestruturas de multicamadas entre W/CoFeB. A investigação é feita através de: (i) medidas de caráter estrutural para ... -
Synthesis of GaN by N ion implantation in GaAs (001)
(1995) [Artigo de periódico]Both the hexagonal and cubic GaN phases were synthesized in GaAs ~001! by 50 keV N ion implantation at 380 °C and subsequent furnace annealing at 850–950 °C for 10 min–2 h. For a fluence of 1.531017 cm22, transmission ...