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Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al/sub 2/O/sub 3/ films on Si" : reply

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Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al/sub 2/O/sub 3/ films on Si" : reply

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Título Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al/sub 2/O/sub 3/ films on Si" : reply
Autor Krug, Cristiano
Rosa, Elisa Brod Oliveira da
Almeida, Rita Maria Cunha de
Morais, Jonder
Baumvol, Israel Jacob Rabin
Salgado, Tania Denise Miskinis
Stedile, Fernanda Chiarello
Contido em Physical review letters. Woodbury. Vol. 86, no. 20 (May 2001), p. 4714
Assunto Alumina
Filmes finos
Interface semicondutor-isolante
Oxidacao
Recozimento
Silicio
Tratamento térmico
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/100091
Arquivos Descrição Formato
000292758.pdf (46.63Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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