Repositório Digital

A- A A+

Determinação do mecanismo de crescimento de filmes finos de oxinitreto de silício

.

Determinação do mecanismo de crescimento de filmes finos de oxinitreto de silício

Mostrar registro completo

Estatísticas

Evento Salão de Iniciação Científica (8. : 1996 set. 09-13 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Determinação do mecanismo de crescimento de filmes finos de oxinitreto de silício
Autor Cerveira, Gustavo Pires
Radtke, Claudio
Baumvol, Israel Jacob Rabin
Stedile, Fernanda Chiarello
Salgado, Tania Denise Miskinis
Contido em Salão de Iniciação Científica (8. : 1996 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1996.
Sessão FÍSICA ATÔMICA
Assunto Ciências exatas e da terra
Fisica da materia condensada
Filmes finos dieletricos
Filmes finos dielétricos : Mecanismos de crescimento : Tratamento térmico
Análise por reação nuclear
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/101924
Arquivos Descrição Formato
000177053.pdf (9.412Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

Este item está licenciado na Creative Commons License

Este item aparece na(s) seguinte(s) coleção(ões)


Mostrar registro completo

Percorrer



  • O autor é titular dos direitos autorais dos documentos disponíveis neste repositório e é vedada, nos termos da lei, a comercialização de qualquer espécie sem sua autorização prévia.
    Projeto gráfico elaborado pelo Caixola - Clube de Criação Fabico/UFRGS Powered by DSpace software, Version 1.8.1.