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In situ electrical resistivity of thin-film beta-nial under ar irradiation at 77 k

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In situ electrical resistivity of thin-film beta-nial under ar irradiation at 77 k

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Título In situ electrical resistivity of thin-film beta-nial under ar irradiation at 77 k
Autor Costa, Jose Antonio Trindade Borges da
Vasconcellos, Marcos Antonio Zen
Teixeira, Sergio Ribeiro
Scherer, Claudio
Baibich, Mario Norberto
Abstract We report on the dose dependence of the in sítu electrical resistivity of a thin-film NiAl alloy under 120-keV-Ar-ion irradiation at 77 K. The results show two different behaviors. First, the values of resistivity increase, exhibiting a maximum, and then, for higher doses, the electrical resistivity decreases down to saturation. Our results are interpreted in terms of simple composite models that assume local transformation of the solid by successive ion impacts.
Contido em Physical review. B, Condensed matter. New York. Vol. 45, no. 17 (May 1992), p. 9626-9628
Assunto Condutividade
Filmes finos
Implantacao ionica
Intermetalicos
Mistura por bombardeamento ionico
Radiacao ionica
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/103619
Arquivos Descrição Formato
000055738.pdf (425.1Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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