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Coulomb heating of channeled H/sup + sub 2/ and H/sup + sub 3/ molecules in Si

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Coulomb heating of channeled H/sup + sub 2/ and H/sup + sub 3/ molecules in Si

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Título Coulomb heating of channeled H/sup + sub 2/ and H/sup + sub 3/ molecules in Si
Autor Fadanelli Filho, Raul Carlos
Grande, Pedro Luis
Behar, Moni
Dias, Johnny Ferraz
Schiwietz, Gregor
Denton, Cristian D.
Abstract Si-K x-ray and backscattering yields have been measured as a function of the projectile entrance angle for atomic and molecular (H2 + and H3 +) hydrogen ions channeling at kinetic energies of 150 keV per proton along the Si k100l crystal direction. A large enhancement of the x-ray production has been observed for well-aligned H3 + molecule beams. It is shown that this effect results from the Coulomb explosion of the molecule fragments during the channeling motion. Moreover, the shape and intensity of the measured angular distribution allows a quantitative determination of the corresponding heating of the transversal ion motion (2.6±0.6 eV for H2 + and 5.1±0.8 eV for H3 + molecules) in the channel. These values are consistent with the stored potential energies per particle and they depend significantly on the collective wake forces and molecular alignment conditions.
Contido em Physical review. B, Condensedmatter and materials physics. Woodbury. Vol. 69, no. 21 (June 2004), 212104 4p.
Assunto Canalização
Espalhamento de raios-x
Física
Intensidade de linha espectral
Retroespalhamento
Semicondutores elementares
Silicio
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/104265
Arquivos Descrição Formato
000459219.pdf (159.1Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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