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Análise dos efeitos de dose total ionizante em transistores CMOS tecnologia 0,35 μm

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Análise dos efeitos de dose total ionizante em transistores CMOS tecnologia 0,35 μm

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Título Análise dos efeitos de dose total ionizante em transistores CMOS tecnologia 0,35 μm
Outro título Analysis of Total ionizing dose effects in 0.35μm CMOS technology transistors
Autor Both, Thiago Hanna
Orientador Wirth, Gilson Inacio
Data 2013
Nível Mestrado
Instituição Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Instituto de Informática. Programa de Pós-Graduação em Microeletrônica.
Assunto Cmos
Radiação ionizante
Transistores
[en] Ionizing radiation
[en] TID
[en] Total ionizing dose
Resumo Este trabalho apresenta um estudo sobre a degradação de parâmetros elétricos de transistores CMOS tecnologia 0,35 μm, fabricados com o processo AMS C35B4, devido aos efeitos de dose total ionizante. Os efeitos de dose total são resultado do acúmulo de cargas em estruturas dielétricas de dispositivos semicondutores; em transistores MOS, este acúmulo de carga afeta parâmetros elétricos como a tensão de limiar, subthreshold swing, ruído 1/f, corrente de fuga e mobilidade efetiva dos portadores de carga. Com o objetivo de mensurar o impacto dos efeitos de dose total em transistores CMOS 0,35 μm, foi realizado um ensaio de irradiação, submetendo-se transistores de uma tecnologia comercial à radiação ionizante e realizando a caracterização destes dispositivos para diferentes doses totais acumuladas. Os resultados obtidos indicam a degradação dos transistores devido aos efeitos de dose total, bem como apontam a influência da polarização dos dispositivos durante o ensaio de irradiação nesta degradação. Estes resultados podem ser utilizados para, através de simulação elétrica de circuitos, estimar a tolerância à dose total de uma determinada topologia de circuito ou sistema.
Abstract This work presents a study on the degradation of electrical parameters of 0,35 μm CMOS transistors, fabricated with an AMS C35B4 process, due to total ionizing dose (TID) effects. The TID effects are the result of the trapping of charges in dielectric structures of semiconductor devices; in MOS transistors, this charge trapping affects electrical parameters such as threshold voltage, subthreshold swing, 1/f noise, leakage current and carrier effective mobility. In order to measure the impact of TID effects on electrical parameters of 0,35μm CMOS transistors, an irradiation test was performed, exposing transistors from a commercial technology to ionizing radiation and characterizing these devices under different total doses. The results obtained in this work indicate transistor degradation due to TID effects, as well as the impact of device polarization during the irradiation test on transistor degradation. These results may be used, through electrical simulation of circuits, to estimate the impact of TID effects on the operation of a circuit or system.
Tipo Dissertação
URI http://hdl.handle.net/10183/115558
Arquivos Descrição Formato
000963729.pdf (2.564Mb) Texto completo Adobe PDF Visualizar/abrir

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