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Crescimento térmico de filmes dielétricos ultrafinos de SiO2 e Si3N4.

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Crescimento térmico de filmes dielétricos ultrafinos de SiO2 e Si3N4.

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Evento Salão de Iniciação Científica (07. : 1995 out. 16-20 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Crescimento térmico de filmes dielétricos ultrafinos de SiO2 e Si3N4.
Autor Gregol, Leonardo B.
Petró, Kleynér S.
Cerveira, Gustavo P.
Orientador Salgado, Tania D.M.
Contido em Salão de Iniciação Científica (07. : 1995 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS/PROPESQ, 1995.
Assunto Ciências exatas e da terra
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/120036
Arquivos Descrição Formato
Resumo_199502.pdf (10.82Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

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