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dc.contributor.advisorSalgado, Tania D.M.pt_BR
dc.contributor.authorGregol, Leonardo B.pt_BR
dc.contributor.authorPetró, Kleynér S.pt_BR
dc.contributor.authorCerveira, Gustavo P.pt_BR
dc.date.accessioned2015-08-03T15:57:50Zpt_BR
dc.date.issued1995pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/120036pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.relation.ispartofSalão de Iniciação Científica (07. : 1995 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS/PROPESQ, 1995.pt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.titleCrescimento térmico de filmes dielétricos ultrafinos de SiO2 e Si3N4.pt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (07. : 1995 out. 16-20 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.type.presentationApresentação oralpt_BR
dc.identifier.old-sic199502pt_BR


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