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Estudo da falta de adesão de eletrodepósitos de cromo sobre níquel

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Estudo da falta de adesão de eletrodepósitos de cromo sobre níquel

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Título Estudo da falta de adesão de eletrodepósitos de cromo sobre níquel
Autor Wolffenbuttel, Adriana Nunes
Orientador Mautone, Adao
Data 1992
Nível Mestrado
Instituição Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Escola de Engenharia. Programa de Pós-Graduação em Engenharia Metalurgica e dos Materiais.
Assunto Eletrodeposição : Cromo
Resumo Neste trabalho estudou-se a falta de aderência de eletrodepósitos de cromo, obtidos a partir do banho convencional o (Cr-0 3 250 g/1 e H SO 2,5 g/1), 2 4 à temper-atura de 55 c, sobre eletrodepósitos de níquel sulfamato e outros substratos. Os ensaios de elelrodeposição, com duração de 50 minutos, for-am r-ealizados com fontes de corrente pulsante e de tensão, sendo os depósitos poster-ior-mente avaliados por microscopia ótica e eletrônica, difr-ação de raios X e medidas de rugosidade e brilho. Constatou-se que o aumento do valor- de ripple não influencia as característ icas do depÓsito e não pr-ovoca o seu descascamento. Estas características brilho, tamanho de grão, taxa de deposição e trincas) apresentam redução quando utiliza-se a forma de onda de corrente elétrica pulsante. Verificou-se também que a aderência do cromo sofre influência do substrato e das condiçÕes iniciais de operação, tais como, densidade de cor-rente e tempo de permanência do corpo de prova no banho antes do inicio do ensaio.
Abstract In this work lhe adhesion absence in chromium electroplaling, obtained from conventional bath (CrO 250 g/1 and o 3 H SO 2,5 g/1) al 55 C , over nickel sulfamate and others 24 substrates was studied. The electroplating tests were made with a pulsal ing currenl source and a vollage source for 50 minuts. Afterwards lhe deposits were studied wilh scanning electrons microscopy, optical microscopy, X ray diffracl ion as well as roughness and brighleness measurements. It was verified lhal lhe increase in lhe ripple value didn't modify lhe paramelers lhe qualily of lhe deposits and also didn't cause exfotial ion or taminat ion in this layer. These paramelers (brighlness, grain size, deposit íon rale and crack ing) are reduced when wave shape pulsal ing current is applied. It was also verified that chromium adhesion depends on the substract and on the inicial operating condition of the bath: current density and time in which lhe substrate slayed in the bath before the beginning of the tests.
Tipo Dissertação
URI http://hdl.handle.net/10183/129430
Arquivos Descrição Formato
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