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Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores

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Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores

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Título Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores
Autor Stedile, Fernanda Chiarello
Orientador Baumvol, Israel Jacob Rabin
Co-orientador Schreiner, Wido Herwig
Data 1990
Nível Mestrado
Instituição Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Instituto de Física. Curso de Pós-Graduação em Física.
Assunto Filmes finos
Implantacao de ions
Sputtering
Resumo Filmes finos de óxido de estanho depositados por "sputtering" reativo foram caracterizados com bases em análises feitas por Espalhamento Nuclear Ressonante, Espectroscopia por Retroespalhamento Rutheford, Espectroscopia Mössbauer de Elétrons de Conversão e Difração de Raios-X e pelas medidas de Resistência de Folha. Numa primeira fase, as amostras foram submetidas a tratamentos térmicos em ar e expostas à gás de cozinha, afim de testar as propriedades sensoras do material. Os filmes finos como depositados foram modificados pelos tratamentos térmicos e exposições a gases, que aumentaram sua condutividade elétrica e alteraram a concentração de vacâncias de oxigênio. Numa segunda fase, os filmes foram submetidos a diferentes tratamentos térmicos, implantados com os íons Fe+, ZN+,Cu+,Ga+ e As+ e novamente tratados termicamente. Foram observados aumentos na condutividade elétrica induzidos pela dopagem dos filmes e algumas correlações entre o perfil de distribuição das espécies implantadas e as razões O/Sn em função da profundidade.
Tipo Dissertação
URI http://hdl.handle.net/10183/1370
Arquivos Descrição Formato
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