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Co/ag multilayer film : role of annealing on the magnetic properties

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Co/ag multilayer film : role of annealing on the magnetic properties

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Título Co/ag multilayer film : role of annealing on the magnetic properties
Autor Schelp, Luiz Fernando
Tosin, Giancarlo
Carara, Marcos Andre
Baibich, Mario Norberto
Gomes, Affonso Augusto Guidao
Schmidt, Joao Edgar
Abstract Co( 15 A)/Ag(60 A) multilayers produced by electron beam deposition on a 50 A chromium buffer layer over a Si( 111) wafer have been studied by magnetoresistance, saturation magnetization, coercivity, and anisotropy. Annealing at various temperatures produces striking effects on the observed physical properties, such as an improvement on the value of the magnetoresistance associated to a “back-diffusion” process in the Co/Ag interfaces. This leads one to believe that interface roughness is indeed most important to understanding the connection between giant magnetoresistance and antiferromagnetic coupling, as well as the behavior of coercivity vs interface anisotropy in these materials.
Contido em Applied physics letters. New York. Vol. 61, n. 15 (Oct. 1992), p. 1858-1860
Assunto Fisica da materia condensada
Implantacao de ions
Interfaces
Magnetizacao
Magnetoresistencia
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/140555
Arquivos Descrição Formato
000056035.pdf (659.1Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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