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Oxygen reaction-diffusion in metalorganic chemical vapor deposition HfO/sub 2/ films annealed in O/sub 2/

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Oxygen reaction-diffusion in metalorganic chemical vapor deposition HfO/sub 2/ films annealed in O/sub 2/

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Título Oxygen reaction-diffusion in metalorganic chemical vapor deposition HfO/sub 2/ films annealed in O/sub 2/
Autor Bastos, Karen Paz
Morais, Jonder
Miotti, Leonardo
Pezzi, Rafael Peretti
Soares, Gabriel Vieira
Baumvol, Israel Jacob Rabin
Hegde, R.I.
Tseng, Hsing-Huang
Tobin, Phil J.
Abstract Composition, atomic transport, and chemical reaction were investigated following annealing in O2 of ultrathin HfO2 films deposited on Si substrates thermally nitrided in NO. The as-prepared thin film composition was established by Rutherford backscattering spectrometry, nuclear reaction analysis, and x-ray photoelectron spectroscopy as a HfO2 film on an intermediate layer containing silicon oxynitride, hafnium silicate, and possibly hafnium–silicon oxynitride. O penetration, incorporation in the bulk of the HfO2 /SiOxNy structure, and oxidation of the substrate forming SiO2 were observed.
Contido em Applied physics letters. Melville. Vol. 81, no. 9 (Aug. 2002), p. 1669-1671
Assunto Análise química nuclear
Compostos de háfnio
Deposição por MOCVD
Espectro de fotoeletrons produzidos por raios-x
Filmes finos isolantes
Oxidacao
Recozimento
Retroespalhamento rutherford
Sistemas de difusão-reação
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/141221
Arquivos Descrição Formato
000329971.pdf (408.8Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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