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Reduction of hafnium oxide and hafnium silicate by rhenium and platinum

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Reduction of hafnium oxide and hafnium silicate by rhenium and platinum

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Título Reduction of hafnium oxide and hafnium silicate by rhenium and platinum
Autor Copel, Matthew
Pezzi, Rafael Peretti
Neumayer, Deborah
Jamison, Paul
Abstract We report chemical interactions of Hf-based dielectrics with Re and Pt overlayers during annealing. Reduction of the Hf to a suboxide is observed by x-ray photoelectron spectroscopy, along with a decrease in total oxygen content measured by medium-energy ion scattering. For Re, this unanticipated reaction is highly dependent on the premetallization history of the sample. The presence of hydroxyl groups, observed by infrared absorption, is thought to be responsible. In addition, substantial electrostatic core-level shifts are observed, even in the absence of Hf reduction. The electrostatic shifts are symptomatic of altered threshold voltages for devices.
Contido em Applied physics letters. Vol. 88, no. 7 (Feb. 2006), 072914, 3 p.
Assunto Espalhamento
Espectros de raios-x de fotoeletrons
Háfnio
Materiais dieletricos
Metalizacao
Níveis de caroço
Platina
Reducao
Renio
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/141466
Arquivos Descrição Formato
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