Repositório Digital

A- A A+

Deposição e caracterização de filmes finos metálicos

.

Deposição e caracterização de filmes finos metálicos

Mostrar registro completo

Estatísticas

Título Deposição e caracterização de filmes finos metálicos
Autor Alexandre, Jéssica
Orientador Morais, Jonder
Data 2012
Nível Graduação
Instituição Universidade Federal do Rio Grande do Sul. Instituto de Química. Curso de Química: Bacharelado.
Assunto Filmes finos
Resumo Este trabalho de conclusão de curso tem o objetivo de estudar o crescimento de filmes metálicos ultrafinos. Foram depositados filmes de prata (Ag) e cobre (Cu) sobre substratos de silício e vidro pelo método de deposição por Pulverização Catódica (Sputtering). As propriedades ópticas, estruturais e morfológicas dos filmes foram investigadas através das técnicas de Espectroscopia de Absorção no Ultravioleta-Visível (UV-Vis), Difração de Raios-X (DRX) e Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). As espessuras dos filmes foram determinadas pela técnica de Perfilometria. Como resultado, foi possível determinar as taxas de crescimento dos filmes em função dos parâmetros de deposição, e estabelecer um procedimento para a obtenção da espessura de um filme a partir da sua Transmitância.
Tipo Trabalho de conclusão de graduação
URI http://hdl.handle.net/10183/142943
Arquivos Descrição Formato
000871520.pdf (1.866Mb) Texto completo Adobe PDF Visualizar/abrir

Este item está licenciado na Creative Commons License

Este item aparece na(s) seguinte(s) coleção(ões)


Mostrar registro completo

Percorrer



  • O autor é titular dos direitos autorais dos documentos disponíveis neste repositório e é vedada, nos termos da lei, a comercialização de qualquer espécie sem sua autorização prévia.
    Projeto gráfico elaborado pelo Caixola - Clube de Criação Fabico/UFRGS Powered by DSpace software, Version 1.8.1.