Electrochemical studies of copper in N-N, dimethylformamide in the presence of water, ethanol and acetic acid as additives

Abstract

Neste trabalho são apresentados os resultados da avaliação do comportamento eletroquímico do eletrodo de cobre em N-N dimetilformamida na presença de água, etanol e ácido acético, por voltametria cíclica. O processo de eletrooxidação do eletrodo se inicia no potencial de -0,20 V(ECS). Durante a varredura anódica de potencial foram observados dois picos de oxidação, provavelmente associados às reações Cu ® Cu(I) e Cu ® Cu(II). A redução do óxido ficou caracterizada na varredura catódica. A presença, tanto de água como de etanol, aumenta a corrente de oxidação do metal, ao passo que a adição de ácido acético inibe este processo. A incidência de luz policromática diminue o perfil do voltamograma, indicando que são alterados os processos de interação entre a água e o metal.

The electrochemical behaviour of copper has been investigated in N-N, dimethylformamide in the presence of water, ethanol and/or acetic acid as contaminants, by a potentiodynamic method. The electrooxidation of the electrode started at around -0.20V(SCE). Two oxidation peaks were observed and attributed to Cu ® Cu(I) and Cu ® Cu(II) processes. The reduction of the oxide was observed during the cathodic potential sweep. The presence of water and ethanol increased the anodic current while in the presence of acetic acid this process was inhibited. The incidence of polychromatic light on the electrode surface decreased the anodic current. It was suggested that the light affects the interaction between the adsorbed water and the surface of the metal.