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Determinação dos parâmetros de deposição de filmes de HfO2 sobre Si depositados por sputtering

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Determinação dos parâmetros de deposição de filmes de HfO2 sobre Si depositados por sputtering

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Evento Salão de Iniciação Científica (23. : 2011 out. 3-7 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Determinação dos parâmetros de deposição de filmes de HfO2 sobre Si depositados por sputtering
Autor Feijó, Tais Orestes
Orientador Soares, Gabriel Vieira
Sessão Tópicos gerais
Temática Processamento e análise de materiais
Assunto Ciências exatas e da terra
Física
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/48497
Arquivos Descrição Formato
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