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dc.contributor.advisorSoares, Gabriel Vieirapt_BR
dc.contributor.authorFeijó, Tais Orestespt_BR
dc.date.accessioned2013-01-25T10:26:22Zpt_BR
dc.date.issued2012pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/63806pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.titleInteração do hidrogênio com filmes de HfO2 depositados sobre Ge e Si.pt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de Iniciação Científica (24. : 2012 out. 1-5 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.subject.sessionProcessamento e análise de materiais ipt_BR
dc.subject.themeProcessamento e análise de materiaispt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.type.presentationApresentação oralpt_BR
dc.description.number10pt_BR
dc.identifier.sic23453pt_BR
dc.subject.macroFísicapt_BR


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