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Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio

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Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio

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Evento Salão de Iniciação Científica (24. : 2012 out. 1-5 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio
Autor Schafer, Laura
Orientador Krug, Cristiano
Sessão Informática - microeletrônica
Temática Microeletrônica
Assunto Ciências exatas e da terra
Informática
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/64355
Arquivos Descrição Formato
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