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Transporte atômico em filmes dielétricos : nanoestruturas Al2O3/Si submetidas a tratamentos térmicos em diferentes atmosferas

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Transporte atômico em filmes dielétricos : nanoestruturas Al2O3/Si submetidas a tratamentos térmicos em diferentes atmosferas

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Evento Salão de iniciação Científica (13. : 2001 out. 22-26 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Transporte atômico em filmes dielétricos : nanoestruturas Al2O3/Si submetidas a tratamentos térmicos em diferentes atmosferas
Autor Scalcon, Gustavo Frederico
Rosa, Elisa Brod Oliveira da
Salgado, Tania Denise Miskinis
Contido em Salão de Iniciação Científica (13. : 2001 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2001.
Sessão Química de Materiais, Materiais Cerâmicos e Estado Sólido
Assunto Ciências exatas e da terra
Filmes finos
Tratamento térmico
Silicio
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/67050
Arquivos Descrição Formato
000311878.pdf (27.36Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

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