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dc.contributor.authorRadtke, Claudiopt_BR
dc.contributor.authorStedile, Fernanda Chiarellopt_BR
dc.date.accessioned2014-01-15T01:55:37Zpt_BR
dc.date.issued1999pt_BR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10183/85563pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoporpt_BR
dc.relation.ispartofSalão de Iniciação Científica (11. : 1999 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1999.pt_BR
dc.rightsOpen Accessen
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.subjectNitrogênio : Deposiçãopt_BR
dc.subjectSilicio : Oxidacaopt_BR
dc.titleNitretação de filmes de SiO2 sobre SiCpt_BR
dc.typeResumo publicado em eventopt_BR
dc.contributor.eventSalão de iniciação Científica (11. : 1999 out. 25-29 : UFRGS, Porto Alegre, RS).pt_BR
dc.identifier.nrb000247442pt_BR
dc.subject.sessionNovos Materiais Ipt_BR
dc.subject.cnpqCiências exatas e da terrapt_BR
dc.description.number123pt_BR
dc.type.originNacionalpt_BR


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