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Structural and magnetic behavior of ar+-implanted co/pd multilayers : interfacial mixing

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Structural and magnetic behavior of ar+-implanted co/pd multilayers : interfacial mixing

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Título Structural and magnetic behavior of ar+-implanted co/pd multilayers : interfacial mixing
Autor Schelp, Luiz Fernando
Carara, Marcos Andre
Viegas, Alexandre da Cas
Vasconcellos, Marcos Antonio Zen
Schmidt, Joao Edgar
Abstract The magnetization behavior of Co/Pd multilayers has been analyzed as a function of the degree of interfacial mixing among the Co and Pd layers. Controlled atomic mixing was induced by low-dose and low-flux ion implantation and a follow-up of the structural status of the samples was made by simulation of the high-angle x-ray-diffraction data. Values of the saturation magnetization as a function of the broadness of Co concentration profile are presented and explained by a simple model based on the parameters obtained from the x-ray simulations.
Contido em Journal of Applied Physics. Woodbury. Vol. 75, n. 10 (May 1994), p. 5262-5266
Assunto Difracao
Difracao de raios x
Fisica da materia condensada
Implantacao de ions
Magnetizacao
Materiais magneticos
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/95411
Arquivos Descrição Formato
000256597.pdf (781.9Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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