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The influence of aluminum grain size on alumina nanoporous structure

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The influence of aluminum grain size on alumina nanoporous structure

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Título The influence of aluminum grain size on alumina nanoporous structure
Autor Feil, Adriano Friedrich
Costa, Marlla Vallerius da
Amaral, Livio
Teixeira, Sergio Ribeiro
Migowski, Pedro
Dupont, Jairton
Machado, Giovanna
Peripolli, Suzana Bottega
Abstract An approach to control the interpore distances and nanopore diameters of 150-nm-thick thin aluminum films is reported here. The Al thin films were grown by sputtering on p-type silicon substrate and anodized with a conventional anodization process in a phosphoric acid solution. It was found that interpore distance and pore diameter are related to the aluminum grain size and can be controlled by annealing. The grain contours limit the sizes of alumina cells. This mechanism is valid for grain sizes supporting only one alumina cell and consequently only one pore.
Contido em Journal of applied physics. Melville. Vol. 107, no. 2 (Jan. 2010), 026103, 3 p.
Assunto Alumínio
Deposição por sputtering
Filmes finos
Fisica da materia condensada
Materiais nanoestruturados
Nanotubos
Tamanho de grão
Origem Estrangeiro
Tipo Artigo de periódico
URI http://hdl.handle.net/10183/96124
Arquivos Descrição Formato
000731674.pdf (485.3Kb) Texto completo (inglês) Adobe PDF Visualizar/abrir

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