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Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área

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Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área

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Evento Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 set. 15-19 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área
Autor Pimenta, Marcelo Dornelles
Strohaecker, Telmo Roberto
Contido em Salão de Iniciação Científica (9. : 1997 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1997.
Sessão Engenharia Metalúrgica e de Materias I
Assunto Engenharias
Metalurgia fisica : Ensaios
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/98223
Arquivos Descrição Formato
000241991.pdf (12.72Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

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