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Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]

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Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]

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Evento Salão de iniciação Científica (15. : 2003 nov. 24-28 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]
Autor Guedes, João Pedro Favero
Lima, Marcio Dias
Orientador Bergmann, Carlos Perez
Contido em Salão de Iniciação Científica (15. : 2003 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2003.
Sessão Engenharia Metalúrgica e de Materiais V
Assunto Engenharias
Engenharia de materiais
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/39930
Arquivos Descrição Formato
000402120.pdf (16.85Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

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