Repositório Digital

A- A A+

Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias

.

Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias

Mostrar registro completo

Estatísticas

Evento Salão de Iniciação Científica (10. : 1998 set. 19-23 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Título Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
Autor Krug, Cristiano
Andrade, Jones de
Salgado, Tania Denise Miskinis
Stedile, Fernanda Chiarello
Baumvol, Israel Jacob Rabin
Contido em Salão de Iniciação Científica (10. : 1998 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1998.
Sessão Física Experimental I
Assunto Ciências exatas e da terra
Filmes finos dieletricos
Implantacao de ions
Oxinitreto de silicio
Tipo Resumo publicado em evento
URI http://hdl.handle.net/10183/88299
Arquivos Descrição Formato
000223993.pdf (26.85Kb) Resumo Adobe PDF Visualizar/abrir

Este item está licenciado na Creative Commons License

Este item aparece na(s) seguinte(s) coleção(ões)


Mostrar registro completo

Percorrer



  • O autor é titular dos direitos autorais dos documentos disponíveis neste repositório e é vedada, nos termos da lei, a comercialização de qualquer espécie sem sua autorização prévia.
    Projeto gráfico elaborado pelo Caixola - Clube de Criação Fabico/UFRGS Powered by DSpace software, Version 1.8.1.